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Sputter Targets - Carbide

Die auf dieser Seiten aufgeführten Carbide sind unser Standardportfolio. Sollten Sie weitere Verbindungen benötigen, dann stehen wir Ihnen jederzeit gerne zur Verfügung. Bitte schicken Sie uns die von Ihnen gewünschten Sputtertarget Parameter (Reinheit, Größe, Toleranzen) und wir lassen Ihnen schnellstmöglich ein passendes Angebot zukommen.

Name Formel Reinheit
Borcarbid - Sputter Target B4C 2N5
Chromcarbid - Sputter Target Cr3C2 3N-3N5
Hafniumcarbid - Sputter Target HfC 2N-4N
Molybdäncarbid - Sputter Target Mo2C 2N5-3N
Niobcarbid - Sputter Target NbC 2N5
Siliziumcarbid - Sputter Target SiC 2N3-5N5
Tantalcarbid - Sputter Target TaC 2N5
Titancarbid - Sputter Target TiC 98%, 99%
Titan Graphit Carbid - Sputter Target TiCN 98%, 99%
Wolframcarbid - Sputter Target W2C 2N5
Wolframcarbid - Sputter Target WC 2N5
Wolframcarbid (Ni dotiert) - Sputter Target WC+Ni 2N5
Wolframcarbid (Co dotiert) - Sputter Target WC+Co 2N5
Vanadiumcarbid - Sputter Target VC 2N5
Zirkoncarbid - Sputter Target ZrC 3N-4N


Company News

Wir erfüllen bereits heute die Vorschriften von morgen

Besuchen Sie uns auf der Vision Expo East in New York - 31 März bis 3 April

Besuchen Sie uns auf der Laser World of Photonics: 26 - 29 April 2022 in München

Besuchen Sie uns auf der MIDO in Mailand – 30 April bis 2 Mai