PVD-Materialien - Ihr zuverlässiger Lieferant

Die EVOCHEM Advanced Materials GmbH bietet eine der größten und umfangreichsten Produktlinien an Materialien für die Dünnschichtindustrie. Unser Produktportfolio umfasst eine umfassende Auswahl an Aufdampfmaterialien, PVD-Verbrauchsmaterialien, hocheffektiven Sputter Targets und Verdampferwendeln.

Darüber hinaus fertigen wir unsere neue Produktlinie an superhydrophoben Tabletten mit hervorragende Prozess- und Filmeigenschaften.

Hochreine Metalle für die Forschung & Entwicklung

EVOCHEM Advanced Materials GmbH liefert ein umfangreiches Programm an reinen und hochreinen Metallen für die Forschung und Industrie. Unser Portfolio umfasst alle Metalle von Aluminium bis Zirkon. Diese Metalle sind in einer großen Vielfalt an Mengen und Formen erhältlich, darunter als Pulver, Drähte, Folien, Platten, Stäbe, Rohre und Sputtertargets.

Superyhdrophobe Materialien

Die Firma EVOCHEM Advanced Materials GmbH ist bereits seit mehr als einem Jahrzehnt ein zuverlässiger Lieferant für die Dünnschichtindustrie. Unser Produktportfolio umfasst hoch effektive Aufdampfmaterialien, Sputter-Targets sowie PVD-Verbrauchsmaterialien. Daher freuen wir uns sehr, die erfolgreiche Erweiterung unseres Produktportfolios vorzustellen:

Die neue superhydrophobe Produktlinie von EVOCHEM umfasst: EVOCHEM ETC-ULTRA & EVOCHEM ETC-PRO (für PVD-Verfahren) sowie EVOCHEM ETC-LIQUID & EVOCHEM ETC-METAL-LIQUID (für nasschemische Verfahren).

Alle Produkte bieten hervorragende Prozess- und Filmeigenschaften: Hydrophobie, Oleophobie, Anti-Soiling, Easy-to-clean sowie die damit einghergehende haptische Optimierung genügen auch höchsten Ansprüchen.

Durch das Aufbringen von hydrophoben (superhydrophoben) und oleophoben Nanoschichten lassen sich nahezu alle Grenzflächen modifizieren, ohne die ursprünglichen funktionellen/ optischen Eigenschaften der Grenzfläche zu beeinflussen. Nasschemisch hergestellte hydrophobe Schichten haben für hewöhnlich eine irreguläre, aus vielen unterschiedlichen Bausteinen zusammengesetzte Struktur. Im Gegensatz dazu lassen sich bei einer PVD-Abscheidung der hydrophoben und superhydrophoben Materialien unter Vakuum durch entsprechende Prozessführung die Grenzflächen der zu beschichtenden Substrate den Anforderungen einer selbstorganisierenden hydrophoben Nanostruktur optimal anpassen.

Sputtertargets

Wir bieten eine der größten und umfangreichsten Produktlinien an Sputtertargets. Alle gängigen Geometrien (und Größen) sind erhältlich. Das jeweilige Fertigungsverfahren der Sputtertargets wird bestimmt durch die Eigenschaften des Ausgangsmaterials sowie von der gewünschten Endanwendung des Sputtertargets. Dabei finden klassiches Pressverfahren, Vakuumschmelzen und Sintern ihre Anwendung. EVOCHEM fertigt hochwertige Sputtertargets aus allen geeigneten Materialen und Materialkombinationen, wahlweise gebondet (Indium und Nano) auf speziell konstruierte Kühlkörper aus Kupfer, Edelstahl oder Molybdän - sowie auf kundeneigene Rückplatten. Alle Sputtertargets werden in allen Produktionsstadien auf deren Zusammensetzung, Reinheit, Dichte und abschließend auf Form und Abmessungen geprüft.

Beim Kathodenzerstäuben, dem sogenannten Sputtern, liegt das schichtbildende Material in Form eines Festkörpers als Target (Sputtertarget oder auch Sputter Target) vor. Dieses wird durch Beschuss mit Ionen (meist Argon) aus einem Plasma zerstäubt, sodass sich die aus dem Sputter Target ausgeschlagenen Atome und Ionen als Schicht auf dem zu beschichtenden Substrat abscheiden können. Das Plasma wird typischerweise durch eine Gleichspannung mehrerer hundert Volt (DC-Sputtern) oder hochfrequente Wechselspannung (HF- bzw. RF-Sputtern) erzeugt. Beim DC-Sputtern können ausschließlich leitfähige Sputter Targets oder Sputter Materialien verwendet werden, während beim HF-Sputtern darüber hinaus auch isolierende Targetmaterialien eingesetzt werden können. Nach der Evakuierung der Sputterkammer wird anschließend ein Prozessgas, üblicherweise Argon, eingelassen und an die Elektroden, speziell an das Sputter Target, als Kathode eine Spannung angelegt. Dadurch wird in der Sputterkammer ein Plasma gezündet und positive Argonionen erzeugt, die auf die Oberfläche des Sputter Targets auftreffen und Atom aus dem Sputter Target ausschlagen.

Aufdampfmaterialien

Die Firma EVOCHEM leifert ein umfassendes Produktportfolio an Aufdampfmaterialien, die speziell für die besonderen Anforderungen bei der Herstellung optischer Dünnschichten mittels Aufdampfverfahren im Vakuum (Physical Vapor Deposition – PVD) entwickelt wurden.

Unsere Aufdampfmaterialien stehen stellvertretend für die feinsten gegenwärtig erhältlichen Beschichtungsmaterialien, die so verarbeitet oder speziell entwickelt wurden, dass sie den anspruchsvollen Anforderungen bei wissenschaftlichen Versuchen, bei der Produkt- und Prozessentwicklung oder bei der Serienproduktion entsprechen. Unsere Produktlinie besteht aus über 60 Aufdampfmaterialien einschließlich Spezialmischungen und Spezialsubstanzen sowie Fluoriden, Oxiden, Sulfiden und Metallen, die als Granulate, Tabletten oder Scheiben erhältlich sind.

Beim PVD-Verdampfen wird das Beschichtungsmaterial in einem Tiegel (in einem Elektronenstrahlverdampfer) oder einem Schiffchen (thermisches Verdampfen) so stark erhitzt, dass es in die Gasphase übergeht und sich auf dem zu beschichtenden Substrat abscheidet. Dieses Verfahren setzt ein Hochvakuum oder sogar Ultrahochvakuum voraus.

Beim Elektronenstrahlverdampfen gibt eine hochenergetische Strahlung Energie an das zu verdampfende Material ab und erwärmt dieses. Der wesentliche Vorteil dieses Verfahrens ist, dass lediglich eine Erwärmung des Aufdampfmaterials erfolgt, während der Tiegel selbst direkt oder indirekt gekühlt werden kann. Die Leistung beim Elektronenstrahlverdampfen läst sich präziser regeln und ermöglich dadurch meist eine exaktere Aufdampfrate als beim thermischen Verdampfen.

Die zur Erwärmung des Aufdampfmaterials benötigen Elektronen werden mittels eines Strahlerzeugers und Elektrodenstrahlkathoden (meist aus Wolframdraht) erzeugt und emittiert. Um die Elektronen in das jeweilige Aufdampfmaterial zu lenken, wird ein Magnetfeld erzeugt. Dieses Magnetfeld zwingt die Elektronen aufgrund der Lorentzkrat auf eine Kreisbahn und somit direkt in den Tiegel, der das Aufdampfmaterial beinhaltet.

Company News

Nächste Generation von superhydrophoben Materialien

EVOCHEM führt aktualisiertes QMS-System ein